◎Molecular Imprintsが量産半導体に最新リソグラフィー受注

AsiaNet 50761

共同JBN 1223（12.9.25）

◎Molecular Imprintsが量産半導体に最新リソグラフィー受注

【オースティン（米テキサス州）2012年9月25日PRN=共同JBN】ナノパターニング（http://www.molecularimprints.com）・システムおよびソリューションのマーケットリーダー、テクノロジーリーダーであるMolecular Imprints, Inc.（MII）は25日、半導体機器企業のステッパーシステムに統合されるマルチプル・インプリント（http://www.molecularimprints.com）・モジュールの発注を受けたと発表した。これらモジュールはMIIの最新のJet and Flash（商標）インプリント・リソグラフィー（J-FIL、商標）（http://www.molecularimprints.com）技術を含み、最新の半導体メモリーデバイスの量産に必要な性能を備えている。J-FILは2014年の半導体メモリー製造に向けて順調に開発が進んでいる。

（Logo: http://photos.prnewswire.com/prnh/20100504/MILOGO）

Molecular Imprintsのマーク・メリアースミス社長兼最高経営責任者（CEO）は「このマルチプル・モジュールの購入は、J-FILが最終段階の製造準備に利用する顧客からの信任票である。当社の機器、商品マスク製造パートナー、社内チームが、開発活動でうまく調整し、特に欠陥製品と総所有コスト（CoO、http://www.molecularimprints.com）の分野で昨年来大きな進展を見た。われわれはJ-FIL技術の次の段階の商用化と、今後数年の半導体メモリーデバイスの開発ロードマップを実現したいと考えている」と語った。

同社のJ-FIL（商標）技術は、優れたライン幅変動（line edge roughness、LER）（＜2nm LER, 3 sigma）およびクリティカルディメンジョン（CD）均一性（critical dimension uniformity）（1.2nm CDU, 3 sigma）の24nmパターンで、単純なシングルパターニングによるステッププロセスを利用する10nmまでの伸長性を示した。J-FIL固有のCoO面の利点は、電力制限のある極端紫外線（EUV、http://www.molecularimprints.com）露光源、複雑な光学レンズとミラー、超高感度フォトレジストを利用する画像化の困難を回避することで達成され、半導体メモリー製造と良く連携する。

▽Molecular Imprints, Inc.について

Molecular Imprints, Inc. （MII）は、高解像度、低所有コストのナノパターニング・システムおよびソリューションのテクノロジーリーダーである。MIIはその革新的なJet and Flash（商標）インプリント・リソグラフィー（J-FIL、商標）技術を活用して、半導体メモリーデバイス向けの高容量パターニング・ソリューションの世界的なマーケットリーダーかつテクノロジーリーダーとなるとともに、ディスプレー、クリーンエネルギー、バイオテクノロジー、その他産業など新興市場での利用を実現する。MIIは手ごろな価格で競争力があり、10nm以下の次元にまで伸長可能な包括的なインプリント・リソグラフィー・ソリューションを提供することによって、ナノスケール・パターニングを可能にする。

さらに詳しい情報もしくはTwitterでフォローするには以下を参照。http://www.molecularimprints.com

▽問い合わせ先

Paul Hofemann

Molecular Imprints, Inc.

+1-512-225-8441

phofemann@molecularimprints.com

ソース：Molecular Imprints, Inc.

Molecular Imprints Receives Multiple Unit Purchase Order To Provide Advanced Lithography Equipment For High Volume Semiconductor Manufacturing

PR50761

AUSTIN, Texas, Sept. 25, 2012 /PRNewswire-AsiaNet/ --

Molecular Imprints Jet and Flash(TM) Imprint Lithography (J-FIL(TM)) On Track

                  for Semiconductor Memory Production in 2014

    Molecular Imprints, Inc. (MII), the market and technology leader for

nanopatterning (http://www.molecularimprints.com) systems and solutions, today

announced it has received a purchase order for multiple imprint

(http://www.molecularimprints.com) modules that will be integrated into a

semiconductor equipment company's stepper systems. These modules include the

latest MII proprietary Jet and Flash(TM) Imprint Lithography

(http://www.molecularimprints.com) (J-FIL(TM)) technology which delivers the

performance required for high volume manufacturing of advanced semiconductor

memory devices.

    (Logo: http://photos.prnewswire.com/prnh/20100504/MILOGO )

    "This multiple module purchase represents a vote of confidence from our

customers that J-FIL is in the final stages of manufacturing readiness," said

Mark Melliar-Smith, President and CEO of Molecular Imprints. "Our equipment and

commercial mask partners and internal teams have successfully coordinated their

development activities and made tremendous progress over the last year,

particularly in areas of defectivity and overall Cost of Ownership

(http://www.molecularimprints.com) (CoO). We look forward to the next phase of

commercializing our J-FIL technology and to enable the semiconductor memory

device roadmap for years to come."

    The company's J-FIL(TM) technology has demonstrated 24nm patterning with

exceptional line edge roughness (＜2nm LER, 3 sigma) and critical dimension

uniformity (1.2nm CDU, 3 sigma) with extensibility to 10nm using a simple

single patterning step process. J-FIL's inherent CoO advantages achieved by

avoiding power limited EUV (http://www.molecularimprints.com) light sources,

complex optical lenses and mirrors, and difficulties with imaging using

ultrasensitive photoresists, make it well aligned with semiconductor memory

manufacturing.

    About Molecular Imprints, Inc.

    Molecular Imprints, Inc. (MII) is the technology leader for

high-resolution, low cost-of-ownership nanopatterning systems and solutions.

MII is leveraging its innovative Jet and Flash(TM) Imprint Lithography

(J-FIL(TM)) technology to become the worldwide market and technology leader in

high-volume patterning solutions for semiconductor memory devices, while

enabling emerging markets in display, clean energy, biotechnology and other

industries. MII enables nanoscale patterning by delivering a comprehensive

imprint lithography solution that is affordable, compatible and extendible to

sub-10 nanometer dimensions. For more information or to follow us on twitter,

visit http://www.molecularimprints.com.

    Corporate PR Contact

    Paul Hofemann

    Molecular Imprints, Inc.

    +1-512-225-8441

    phofemann@molecularimprints.com

    SOURCE:  Molecular Imprints, Inc.