◎モレキュラー・インプリンツ社が半導体メモリー生産向けのモジュールを初出荷

モレキュラー・インプリンツ社

◎モレキュラー・インプリンツ社が半導体メモリー生産向けのモジュールを初出荷

AsiaNet 52807

共同JBN 0460 (2013.4.23)

【オースティン(米テキサス州)2013年4月23日PRN=共同JBN】最新鋭の半導体リソグラフィー(http://www.molecularimprints.com/)のテクノロジーリーダーであり、ナノパターニング(http://www.molecularimprints.com/)システム、ソリューションのマーケットおよびテクノロジーリーダーであるモレキュラー・インプリンツ社(Molecular Imprints, Inc.、MII)23日、同社の装置パートナーのステッパー・システムに組み込まれることになる3つの最新インプリント・モジュールを今四半期に初出荷すると発表した。モジュールには、MIIが特許を保有する最新のJet and Flash(商標)Imprint Lithography(J-FIL、商標)技術が含まれており、サブ20nmディメンションの最新半導体メモリー・デバイスを大量生産するメーカーにとって必要な性能を提供する。

 (Logo: http://photos.prnewswire.com/prnh/20100504/MILOGO

モレキュラー・インプリンツ社のマーク・メリアー・スミス最高経営責任者(CEO)は「当社の最新インプリント・モジュールの出荷には、オンボード・レジスト・フィルトレーション、リアルタイムの精密な機械コントロール、アップグレードされたレジスト・ジェッティング(http://www.molecularimprints.com/)システムとともに、強化された拡大コントロールとエクスポージャー技術が組み込まれている。このシステムは欠損率、スループット、オーバーレイ精度、総所有コストを大幅に向上させる。これらすべての向上は、より低価格のシステム・プラットフォームおよびより小さな設置面積を提供したうえで、達成された。製品設計および開発で素晴らしい仕事を成し遂げた当社の開発・製造チームを祝福するとともに、当社の装置パートナーから受けたサポートと協力に謝意を表したい。今年中にはこれらのシステムが当社の半導体顧客の生産施設に導入されることを期待する」と語った。

▽モレキュラー・インプリンツ社(Molecular Imprints, Inc.)について

モレキュラー・インプリンツ(MII)は半導体、ディスプレー、ハードディスクドライブ(HDD)業界の高解像度、低所有コストのナノパターニング・システムおよびソリューションのテクノロジーリーダーである。MIIは革新的なJet and Flash(商標)Imprint Lithography(J-FIL、商標)技術とIntelliJet(商標)材料アプリケーションを活用して、ストレージ、メモリー機器の大量パターニング・ソリューションの世界的な市場、テクノロジーリーダーとなるとともに、ディスプレー、クリーンエネルギー、バイオテクノロジー、その他業界での新興市場を可能にしている。MIIは手ごろな価格で互換性があり、サブ10nm解像度まで拡張可能な包括的なナノパターニング・ソリューションを提供して、ナノスケールのナノ製造を可能にしている。詳しい情報、Twitterでのフォローはhttp://www.molecularimprints.comを参照。

▽問い合わせ先

Paul Hofemann

Molecular Imprints, Inc.

+1-512-339-7760 X311

phofemann@molecularimprints.com

ソース:Molecular Imprints, Inc.

Molecular Imprints Ships Its Next Generation Imprint Module System Targeted For Use In Semiconductor Memory Production

PR52807

AUSTIN, Texas, April 23, 2013 /PRN=KYODO JBN/ --

    Molecular Imprints will ship three of its next generation imprint systems

  this quarter.  Two of these systems are expected to be delivered to a leading

                              semiconductor IDM.

Molecular Imprints, Inc. (MII), a technology leader in advanced semiconductor

lithography (http://www.molecularimprints.com/ ) and the market and technology

leader for nanopatterning (http://www.molecularimprints.com/ ) systems and

solutions, today announced the shipment of the first of three advanced imprint

modules scheduled for this quarter that will be integrated into MII's equipment

partner's stepper systems.  These modules include the latest MII proprietary

Jet and Flash(TM) Imprint Lithography (J-FIL(TM)) technology which will deliver

the performance required for high volume manufacturing of advanced

semiconductor memory devices at sub-20nm dimensions.

(Logo: http://photos.prnewswire.com/prnh/20100504/MILOGO )

"Our latest imprint module shipments incorporate enhanced magnification control

and exposure technology along with better onboard resist filtration, real time

precision machine controls, and an upgraded resist jetting

(http://www.molecularimprints.com/ ) system which significantly improve

defectivity,  throughput,  overlay accuracy and overall cost of ownership,"  

said Mark Melliar Smith, Chief Executive Officer of Molecular Imprints.  "All

these improvements were achieved while still delivering a lower cost system

platform and smaller footprint. I want to congratulate our development and

engineering teams for another outstanding job in product design and development

and recognize the support and collaboration we received from our equipment

partner.  We look forward to seeing these systems in action at our

semiconductor customer's production facility later this year."

About Molecular Imprints, Inc.

Molecular Imprints, Inc. (MII) is the technology leader for high-resolution,

low cost-of-ownership nanopatterning systems and solutions in the semiconductor

and hard disk drive (HDD) industries.  MII is leveraging its innovative Jet and

Flash(TM) Imprint Lithography (J-FIL(TM)) technology to become the worldwide

market and technology leader in high-volume patterning solutions for storage

and memory devices, while enabling emerging markets in display, clean energy,

biotechnology and other industries.  MII enables nanoscale nano-manufacturing

by delivering a comprehensive nanopatterning solution that is affordable,

compatible and extendible to sub-10-nanometer resolution levels.  For more

information or to follow us on twitter, visit www.molecularimprints.com

Corporate PR Contact

Paul Hofemann

Molecular Imprints, Inc.

+1-512-339-7760 X311

phofemann@molecularimprints.com

SOURCE:  Molecular Imprints, Inc.

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