◎モレキュラー・インプリンツ社が半導体メモリー生産向けのモジュールを初出荷
◎モレキュラー・インプリンツ社が半導体メモリー生産向けのモジュールを初出荷
AsiaNet 52807
共同JBN 0460 (2013.4.23)
【オースティン(米テキサス州)2013年4月23日PRN=共同JBN】最新鋭の半導体リソグラフィー(http://www.molecularimprints.com/)のテクノロジーリーダーであり、ナノパターニング(http://www.molecularimprints.com/)システム、ソリューションのマーケットおよびテクノロジーリーダーであるモレキュラー・インプリンツ社(Molecular Imprints, Inc.、MII)23日、同社の装置パートナーのステッパー・システムに組み込まれることになる3つの最新インプリント・モジュールを今四半期に初出荷すると発表した。モジュールには、MIIが特許を保有する最新のJet and Flash(商標)Imprint Lithography(J-FIL、商標)技術が含まれており、サブ20nmディメンションの最新半導体メモリー・デバイスを大量生産するメーカーにとって必要な性能を提供する。
(Logo: http://photos.prnewswire.com/prnh/20100504/MILOGO)
モレキュラー・インプリンツ社のマーク・メリアー・スミス最高経営責任者(CEO)は「当社の最新インプリント・モジュールの出荷には、オンボード・レジスト・フィルトレーション、リアルタイムの精密な機械コントロール、アップグレードされたレジスト・ジェッティング(http://www.molecularimprints.com/)システムとともに、強化された拡大コントロールとエクスポージャー技術が組み込まれている。このシステムは欠損率、スループット、オーバーレイ精度、総所有コストを大幅に向上させる。これらすべての向上は、より低価格のシステム・プラットフォームおよびより小さな設置面積を提供したうえで、達成された。製品設計および開発で素晴らしい仕事を成し遂げた当社の開発・製造チームを祝福するとともに、当社の装置パートナーから受けたサポートと協力に謝意を表したい。今年中にはこれらのシステムが当社の半導体顧客の生産施設に導入されることを期待する」と語った。
▽モレキュラー・インプリンツ社(Molecular Imprints, Inc.)について
モレキュラー・インプリンツ(MII)は半導体、ディスプレー、ハードディスクドライブ(HDD)業界の高解像度、低所有コストのナノパターニング・システムおよびソリューションのテクノロジーリーダーである。MIIは革新的なJet and Flash(商標)Imprint Lithography(J-FIL、商標)技術とIntelliJet(商標)材料アプリケーションを活用して、ストレージ、メモリー機器の大量パターニング・ソリューションの世界的な市場、テクノロジーリーダーとなるとともに、ディスプレー、クリーンエネルギー、バイオテクノロジー、その他業界での新興市場を可能にしている。MIIは手ごろな価格で互換性があり、サブ10nm解像度まで拡張可能な包括的なナノパターニング・ソリューションを提供して、ナノスケールのナノ製造を可能にしている。詳しい情報、Twitterでのフォローはhttp://www.molecularimprints.comを参照。
▽問い合わせ先
Paul Hofemann
Molecular Imprints, Inc.
+1-512-339-7760 X311
phofemann@molecularimprints.com
ソース:Molecular Imprints, Inc.
Molecular Imprints Ships Its Next Generation Imprint Module System Targeted For Use In Semiconductor Memory Production
PR52807
AUSTIN, Texas, April 23, 2013 /PRN=KYODO JBN/ --
Molecular Imprints will ship three of its next generation imprint systems
this quarter. Two of these systems are expected to be delivered to a leading
semiconductor IDM.
Molecular Imprints, Inc. (MII), a technology leader in advanced semiconductor
lithography (http://www.molecularimprints.com/ ) and the market and technology
leader for nanopatterning (http://www.molecularimprints.com/ ) systems and
solutions, today announced the shipment of the first of three advanced imprint
modules scheduled for this quarter that will be integrated into MII's equipment
partner's stepper systems. These modules include the latest MII proprietary
Jet and Flash(TM) Imprint Lithography (J-FIL(TM)) technology which will deliver
the performance required for high volume manufacturing of advanced
semiconductor memory devices at sub-20nm dimensions.
(Logo: http://photos.prnewswire.com/prnh/20100504/MILOGO )
"Our latest imprint module shipments incorporate enhanced magnification control
and exposure technology along with better onboard resist filtration, real time
precision machine controls, and an upgraded resist jetting
(http://www.molecularimprints.com/ ) system which significantly improve
defectivity, throughput, overlay accuracy and overall cost of ownership,"
said Mark Melliar Smith, Chief Executive Officer of Molecular Imprints. "All
these improvements were achieved while still delivering a lower cost system
platform and smaller footprint. I want to congratulate our development and
engineering teams for another outstanding job in product design and development
and recognize the support and collaboration we received from our equipment
partner. We look forward to seeing these systems in action at our
semiconductor customer's production facility later this year."
About Molecular Imprints, Inc.
Molecular Imprints, Inc. (MII) is the technology leader for high-resolution,
low cost-of-ownership nanopatterning systems and solutions in the semiconductor
and hard disk drive (HDD) industries. MII is leveraging its innovative Jet and
Flash(TM) Imprint Lithography (J-FIL(TM)) technology to become the worldwide
market and technology leader in high-volume patterning solutions for storage
and memory devices, while enabling emerging markets in display, clean energy,
biotechnology and other industries. MII enables nanoscale nano-manufacturing
by delivering a comprehensive nanopatterning solution that is affordable,
compatible and extendible to sub-10-nanometer resolution levels. For more
information or to follow us on twitter, visit www.molecularimprints.com
Corporate PR Contact
Paul Hofemann
Molecular Imprints, Inc.
+1-512-339-7760 X311
phofemann@molecularimprints.com
SOURCE: Molecular Imprints, Inc.
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