◎キヤノンがMolecular Imprintsの半導体事業を買収

Molecular Imprints Inc.

2014/2/14 09:41

◎キヤノンがMolecular Imprintsの半導体事業を買収

AsiaNet 55800

共同JBN 0155 (2014.2.14)

【オースティン(米テキサス州)2014年2月14日】

*合併によってスピンアウトした独立企業が誕生し、ナノテクノロジー市場機会の開発に専念する。

ナノパターニング・システムとソリューションの市場と技術をリードするMolecular Imprints Inc.(MII)は14日、同社の半導体インプリントリソグラフィー装置事業を日本のキヤノンに売却する合意に調印したと発表した。キヤノンは現在、KrFエキシマおよびi-Line露光リソグラフィー・プラットフォームを製造、販売している。キヤノンは2004年、最先端の高解像パターニングのためのリソグラフィー装置市場に参入するため、ナノインプリント技術の研究を開始した。同社は2009年から、MIIおよびMIIのJet and Flash(商標)Imprint Lithography(J-FIL、商標)を使用する大手半導体メーカー1社と大量生産を目指して合同開発に着手した。

 (Logo: http://photos.prnewswire.com/prnh/20100504/MILOGO

Molecular Imprintsのマーク・メリアースミス最高経営責任者(CEO)は「技術的に低コストのナノリソグラフィー・ソリューションを半導体産業に提供するためにキヤノンと4年前に業務提携したが、この目標のためにわれわれは極めて大きな進展を達成できたことを大変うれしく思う。この成功に基づき、今回の合併は両社にとって次に進当然のステップである」と語った。

キヤノンは2011年、「グローバル優良企業グループ構想」のフェーズIVをスタートさせ、その戦略の1つとして「グローバル多角化」を通じた事業開発を掲げている。生駒俊明・代表取締役副社長兼最高技術責任者(CTO)は「MIIを買収することで当社は『産業機器その他』事業部門を充実させることができる。この革新的な半導体製造の機会を捉えることができ大いに期待をふくらませている。テキサス州オースティンに先端技術開発能力を築き上げていくつもりである」と語った。

Molecular Imprintsは、オースティンにあるテキサス大学でSV・スリーニバサン、グラント・ウィルソン両教授によって開発された技術に基づいて創設された。Molecular Imprintsはこの数年間、キヤノンをはじめ半導体産業インフラストラクチャー・パートナーと共同研究を続け、業界が光学およびEUVリソグラフィーが抱える解像度の限界と膨らむコスト負担を回避することによってムーアの法則を堅持することを可能にした。J-FILを使った最初の製品は、2年間以内に高度なフラッシュ・メモリーに採用される予定である。

キヤノンはJ-FILを最先端の半導体製造に取り込むとともに、今回の合併合意によって新会社がスピンアウトして誕生する。新会社は「Molecular Imprints」の社名を引き続き使用し、主要な人材、ならびにキヤノンと共同所有するMIIのIPポートフォリオの権利を保持することによって、一挙にジャンプスタートできる強みがある。この中には、消費者家電製品および生体医療に利用できるナノスケール・パターニングに対する高まるニーズをサポートするために設計されたマルチプルシステム・プラットフォームも含まれている。Molecular Imprintsのデービッド・ギノ最高執行責任者(COO)は低コストのナノスケール税層ソリューションをディスプレー、ハードディスクドライブ、バイオテクノロジー、その他の新興市場に提供するつもりである」と語った。ギオCOOは、同社がキヤノンとの合併合意の締結前にスピンアウトした際に、新たなMolecular Imprintsの最高経営責任者(CEO)に就任する。

合併は、株主および政府による通常手続きの承認を経た後、2014年4月までに完了する予定である。

▽Molecular Imprints Inc.について

Molecular Imprints Inc.(MII)は高解像度、低所有コストのナノパターニング・システムおよびソリューションのテクノロジーリーダーである。MIIは同社の革新的なJet and Flash(商標)Imprint Lithography(J-FIL、商標)技術を使って、半導体デバイスの高容量パターニング・ソリューションの世界的なテクノロジーリーダーになるとともに、ディスプレー、ハードディスクドライブ、バイオテクノロジーなどで新規事業を可能にしている。MIIは手ごろな価格でサブ20nm解像度まで拡張可能なインプリント・リソグラフィー・ソリューションを提供することでナノスケール・パターニングを可能にしている。

▽問い合わせ先

Paul Hofemann

Molecular Imprints Inc.

1-512-225-8441

phofemann@molecularimprints.com

ソース:Molecular Imprints Inc.

Molecular Imprints' Semiconductor Business To Be Acquired By Canon

PR55800

AUSTIN, Texas, Feb. 14, 2014 /PRN=KYODO JBN / --

-- Merger creates an independent spin out company that will focus on developing

nanotechnology market opportunities

Molecular Imprints Inc. (MII), the market and technology leader for

nanopatterning systems and solutions, today announced it has signed an

agreement to sell its semiconductor imprint lithography equipment business to

Canon Inc. of Tokyo, Japan.  Canon currently manufactures and markets KrF

excimer and i-line illumination optical lithography platforms.  Canon began

conducting research into nanoimprint technology in 2004 to enter the market for

lithography equipment for leading-edge high-resolution patterning.  Since 2009,

the Company has been carrying out joint development with MII and a major

semiconductor manufacturer for mass production using MII's Jet and Flash(TM)

Imprint Lithography (J-FIL(TM)) technology.

(Logo: http://photos.prnewswire.com/prnh/20100504/MILOGO )

"After establishing a business alliance with Canon four years ago to provide a

technologically enabled low cost nanolithography solution to the semiconductor

industry, I'm very pleased to acknowledge the tremendous progress we have

achieved in the pursuit of this goal.  Based on this success, the merger was a

natural next step for our companies," stated Mark Melliar-Smith, CEO of

Molecular Imprints.

In 2011 Canon launched Phase IV of its Excellent Global Corporation Plan, of

which one of the strategies included business development through globalized

diversification.  "Acquiring MII will strengthen our 'Industry and Others'

business unit," stated Canon's CTO, Dr. Toshiaki Ikoma. "We are very excited by

this innovative semiconductor manufacturing opportunity and look forward to

establishing an advanced technology development capability in Austin, Texas."

Molecular Imprints was founded based on technology developed at the University

of Texas at Austin (UT) by Professors SV Sreenivasan and Grant Willson. Over

the last several years, Molecular Imprints has been working with Canon and

other semiconductor industry infrastructure partners to enable the industry to

continue on Moore's Law by side stepping the resolution limits and escalating

cost burden of optical and EUV lithography.   The initial adoption of J-FIL for

production is planned for advanced FLASH memory within the next two years.

While Canon ushers J-FIL into advanced semiconductor manufacturing, this merger

agreement also allows for the spin out creation of a new company that will keep

its original "Molecular Imprints" name and have the advantage of a tremendous

jump start by retaining key personnel and rights jointly owned with Canon to

MII's IP portfolio, along with multiple system platforms that are designed to

support the growing need for nanoscale patterning in consumer electronics and

biomedical applications. "We look forward to providing a low cost nanoscale

manufacturing solution to the display, hard disk drive, biotechnology and other

emerging markets," said David Gino, Molecular Imprints COO.  Mr. Gino will

become the CEO of the new Molecular Imprints once the company is spun out just

prior to the closing of the merger agreement with Canon.

The merger is expected to be completed by April of 2014 after normal

shareholder and government approvals.  

About Molecular Imprints, Inc.

Molecular Imprints, Inc. (MII) is the technology leader for high-resolution,

low cost-of-ownership nanopatterning systems and solutions. MII is leveraging

its innovative Jet and Flash(TM) Imprint Lithography (J-FIL(TM)) technology to

become the worldwide technology leader in high-volume patterning solutions for

semiconductor devices, while enabling emerging markets in display, hard disk

drive, and biotechnology.  MII enables nanoscale patterning by delivering an

imprint lithography solution that is affordable and extendible to sub-20

nanometer dimensions.

Corporate Contact

Paul Hofemann

Molecular Imprints Inc.

1-512-225-8441

phofemann@molecularimprints.com

SOURCE:  Molecular Imprints Inc.

本プレスリリースは発表元が入力した原稿をそのまま掲載しております。また、プレスリリースへのお問い合わせは発表元に直接お願いいたします。

このプレスリリースには、報道機関向けの情報があります。

プレス会員登録を行うと、広報担当者の連絡先や、イベント・記者会見の情報など、報道機関だけに公開する情報が閲覧できるようになります。

プレスリリース受信に関するご案内

SNSでも最新のプレスリリース情報をいち早く配信中