スマートフォンの未来を支える周波数フィルター用の圧電薄膜の電気機械結合係数の向上とメカニズムの解明
早稲田大学
本発表の詳細は、早稲田大学WEBサイトをご覧ください。
https://www.waseda.jp/top/news/75653
■発表のポイント
・スマートフォン向けフィルターの通過帯域を広くするため、大きな電気機械結合係数を持つ圧電材料の開発が盛んに行われてきた。
・窒化アルミニウム圧電薄膜にイッテルビウムを添加することで、電気機械結合係数が最大約1.4倍に増加することを実験で確認。
・イッテルビウムをウルツ鉱型窒化アルミニウム中に置換する際に、ランダムに配置するのではなく、チェーン状の構造が形成される状態がエネルギー的に安定することを解明。
・WITHコロナ社会で重要な大容量通信に向けた周波数フィルターへの応用やIoT社会に必要とされる多くのセンサー、弾性波デバイスへの応用も期待される。
■概要
早稲田大学理工学術院 先進理工研究科の柳谷隆彦准教授と国際理工学センターの賈軍軍准教授は、スマートフォン向けの周波数フィルター(BAWフィルター)に実用化されている窒化アルミニウム(AlN)圧電薄膜材料にイッテルビウム(Yb)を添加することで、AlN圧電薄膜の電気機械結合係数が最大約1.4倍増加することを発見しました。さらに、理論計算により電気機械結合係数の向上に関するメカニズムを解明し、新規圧電材料の探索に有用な指針を示しました。
今後、広帯域のBAWフィルターに応用するなど、大容量データ通信が重要なWITHコロナ社会に貢献することが期待されます。
この研究成果は、アメリカ物理学会の学術誌「Physical Review Applied」オンライン版に10月8日付で掲載さました。
【論文情報】
・掲載誌:Physical Review Applied
・論文名:Origin of Enhanced Electromechanical Coupling in (Yb,Al)N Nitride Alloys
・執筆者名(所属機関名):賈 軍軍(早稲田大学理工学術院・国際理工学センター)、柳谷 隆彦(早稲田大学理工学術院・先進理工研究科)
・DOI: https://doi.org/10.1103/PhysRevApplied.16.044009
本プレスリリースは発表元が入力した原稿をそのまま掲載しております。また、プレスリリースへのお問い合わせは発表元に直接お願いいたします。
このプレスリリースには、報道機関向けの情報があります。
プレス会員登録を行うと、広報担当者の連絡先や、イベント・記者会見の情報など、報道機関だけに公開する情報が閲覧できるようになります。
このプレスリリースを配信した企業・団体
- 名称 早稲田大学
- 所在地 東京都
- 業種 大学
- URL https://www.waseda.jp/top/
過去に配信したプレスリリース
新たな政府統計の分析が明らかにした「裁量労働制」の労働環境への影響
12/19 14:00
レニウム-オスミウム法による火山性塊状硫化物鉱床の生成年代決定
12/19 11:00
宇宙古代都市の建設ラッシュを止めるブラックホール
12/18 11:00
新技術でCFRPから炭素繊維を加熱・薬剤レス、エネルギー効率10倍で回収
12/16 11:05
早稲田大学の研究者が学問の魅力を語るPodcast番組 ”博士一歩前” 新シリーズ配信開始
12/12 14:00
ヒトの温熱感覚に関わる脳部位と活動パターンを発見
12/12 11:00
世界デジタル政府ランキング2024年版公開
12/4 11:00
銅酸化物高温超伝導体Bi2212の紫外・可視光領域における大きな光学的異方性の起源を解明
11/20 11:00
小さな刺激が選択の悩みを解消
11/18 11:00